國產光刻膠通過量產驗證:120nm分辨率 配方全自主設計
來源:快科技 編輯:非小米 時間:2024-10-15 18:25人閱讀
快科技10月15日消息,據“中國光谷”公眾號,日前,武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產品,通過半導體工藝量產驗證。
T150 A光刻膠實現配方全自主設計,對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。
據介紹,相較于國外同系列產品UV1610,T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大,穩定性更高,堅膜后烘留膜率優秀。
通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕,下層介質的側壁垂直度表現優異。
資料顯示,太紫微公司成立于2024年5月,由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。
光刻膠主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。
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